Dalam proses pembuatan semikonduktor, pemotongan wafer merupakan langkah kritikal yang memerlukan ketepatan dan kestabilan yang tinggi daripada peralatan. Tapak mesin granit ZHHIMG® menawarkan beberapa kelebihan tersendiri apabila digunakan dalam mesin pemotong wafer, menjadikannya pilihan ideal untuk aplikasi yang mencabar ini.
Kestabilan Luar Biasa Granit ZHHIMG®, dengan ketumpatannya kira-kira 3100 kg/m³, menyediakan asas yang kukuh untuk mesin pemotong wafer. Ketumpatan yang tinggi menghasilkan kestabilan yang sangat baik, meminimumkan sebarang pergerakan atau getaran yang berpotensi semasa proses pemotongan. Kestabilan ini adalah penting kerana getaran yang paling kecil pun boleh menyebabkan alat pemotong menyimpang dari laluan yang dimaksudkan, yang membawa kepada potongan yang tidak tepat dan wafer yang rosak. Berbeza dengan bahan yang mempunyai ketumpatan yang lebih rendah, granit ZHHIMG® memastikan kepala pemotong kekal pada kedudukan yang tepat, membolehkan penghasilan potongan yang berkualiti tinggi dan konsisten merentasi wafer.
Pengembangan Terma Rendah Kemudahan pembuatan semikonduktor sering mempunyai kawalan suhu yang ketat, tetapi turun naik kecil masih boleh berlaku. Granit daripada ZHHIMG® mempunyai pekali pengembangan terma yang sangat rendah. Ini bermakna apabila suhu berubah sedikit dalam persekitaran pembuatan, tapak mesin granit tidak akan mengembang atau mengecut dengan ketara. Dalam pemotongan wafer, di mana toleransi ketepatan berada dalam julat mikrometer atau nanometer, perubahan dimensi yang disebabkan oleh terma boleh membawa bencana. Pengembangan terma rendah granit ZHHIMG® membantu mengekalkan penjajaran komponen mesin pemotong, memastikan proses pemotongan kekal tepat tanpa mengira variasi suhu kecil.
Redaman Getaran UnggulSemasa pemotongan wafer, alat pemotong menghasilkan getaran. Jika getaran ini tidak dilembapkan dengan berkesan, ia boleh berpindah ke wafer, menyebabkan keretakan atau kerosakan lain. Granit ZHHIMG® mempunyai sifat redaman getaran semula jadi. Struktur dalamannya, yang terbentuk dalam tempoh geologi yang panjang, membolehkannya menyerap dan menghilangkan getaran dengan cepat. Ini merupakan kelebihan yang ketara berbanding beberapa tapak mesin berasaskan logam, yang mungkin menghantar getaran dengan lebih mudah. Dengan mengurangkan getaran, tapak mesin granit ZHHIMG® menyumbang kepada operasi pemotongan yang lebih lancar, menghasilkan potongan yang lebih bersih dan wafer yang berkualiti lebih tinggi.
Rintangan Haus Tinggi Mesin pemotong wafer digunakan secara berterusan dalam pembuatan semikonduktor bervolum tinggi. Proses pemotongan menyebabkan tapak mesin terdedah kepada tekanan mekanikal dan geseran. Kekerasan granit ZHHIMG® yang tinggi dan sifat tahan haus membolehkan tapak mesin menahan daya ini dalam tempoh yang lama tanpa haus yang ketara. Ketahanan ini bermakna tapak mesin dapat mengekalkan ketepatan dan prestasi dimensinya sepanjang hayat perkhidmatan yang panjang. Ia mengurangkan keperluan penggantian yang kerap atau penyelenggaraan yang mahal disebabkan oleh isu berkaitan haus, akhirnya menjimatkan masa dan wang pengeluar semikonduktor.
Ketidakaktifan Kimia Persekitaran pembuatan semikonduktor mungkin mendedahkan peralatan kepada pelbagai bahan kimia yang digunakan dalam pembersihan, pengetsaan atau proses lain. Granit ZHHIMG® adalah lengai secara kimia, tahan terhadap kakisan daripada bahan kimia ini. Sifat ini memastikan integriti tapak mesin kekal utuh, walaupun terdedah kepada bahan kimia yang keras. Ia membantu dalam mengekalkan kestabilan dan ketepatan mesin pemotong wafer dari semasa ke semasa, kerana kakisan kimia boleh menyebabkan ubah bentuk atau penurunan prestasi tapak mesin.
Secara ringkasnya, tapak mesin granit ZHHIMG® menawarkan gabungan kestabilan, rintangan haba, redaman getaran, rintangan haus dan inert kimia yang sangat bermanfaat untuk mesin pemotong wafer. Apabila mempertimbangkan naik taraf atau pembelian baharu untuk peralatan pemotong wafer, memilih mesin dengan tapak mesin granit ZHHIMG® adalah keputusan bijak yang dapat meningkatkan kualiti dan kecekapan proses pembuatan semikonduktor.
Masa siaran: 03-Jun-2025