Dalam bidang pemeriksaan wafer semikonduktor, ketulenan persekitaran bilik bersih secara langsung berkaitan dengan hasil produk. Memandangkan ketepatan proses pembuatan cip terus bertambah baik, keperluan untuk platform pembawa peralatan pengesanan menjadi semakin ketat. Platform granit, dengan ciri pelepasan ion logam sifar dan pencemaran zarah yang rendah, telah mengatasi bahan keluli tahan karat tradisional dan menjadi penyelesaian pilihan untuk peralatan pemeriksaan wafer.
Granit ialah batu igneus semula jadi yang terutamanya terdiri daripada mineral bukan logam seperti kuarza, feldspar dan mika. Ciri ini memberikan kelebihan pembebasan ion logam sifar. Sebaliknya, keluli tahan karat, sebagai aloi logam seperti besi, kromium dan nikel, terdedah kepada kakisan elektrokimia pada permukaannya disebabkan oleh hakisan wap air dan gas berasid atau beralkali dalam persekitaran bilik bersih, mengakibatkan pemendakan ion logam seperti Fe²⁺ dan Cr³⁺. Sebaik sahaja ion-ion kecil ini melekat pada permukaan wafer, ia akan mengubah sifat elektrik bahan semikonduktor dalam proses seterusnya seperti fotolitografi dan etsa, menyebabkan hanyut voltan ambang transistor, dan juga membawa kepada litar pintas dalam litar. Data ujian institusi profesional menunjukkan bahawa selepas platform granit sentiasa terdedah kepada simulasi suhu bilik bersih dan persekitaran kelembapan (23±0.5℃, 45%±5% RH) selama 1000 jam, pembebasan ion logam adalah lebih rendah daripada had pengesanan (< 0.1ppb). Kadar kecacatan wafer yang disebabkan oleh pencemaran ion logam apabila menggunakan platform keluli tahan karat boleh setinggi 15% hingga 20%.
Dari segi kawalan pencemaran zarah, platform granit juga berfungsi dengan baik. Bilik bersih mempunyai keperluan yang sangat tinggi untuk kepekatan zarah terampai di udara. Sebagai contoh, dalam bilik bersih Kelas 1 ISO, bilangan zarah 0.1μm yang dibenarkan bagi setiap meter padu tidak melebihi 10. Walaupun platform keluli tahan karat telah menjalani rawatan penggilap, ia mungkin masih menghasilkan serpihan logam atau skala oksida yang mengelupas akibat daya luaran seperti getaran peralatan dan operasi kakitangan, yang boleh mengganggu laluan optik pengesanan atau mencalarkan permukaan wafer. Platform granit, dengan struktur mineralnya yang padat (ketumpatan ≥2.7g/cm³) dan kekerasan tinggi (6-7 pada skala Mohs), tidak terdedah kepada haus atau pecah semasa penggunaan jangka panjang. Pengukuran yang diukur menunjukkan bahawa ia boleh mengurangkan kepekatan zarah terampai di udara kawasan peralatan pengesanan lebih daripada 40% berbanding dengan platform keluli tahan karat, dengan berkesan mengekalkan standard gred bilik bersih.
Sebagai tambahan kepada ciri-cirinya yang bersih, prestasi komprehensif platform granit juga jauh melebihi keluli tahan karat. Dari segi kestabilan terma, pekali pengembangan termanya hanya (4-8) ×10⁻⁶/℃, kurang daripada separuh keluli tahan karat (kira-kira 17×10⁻⁶/℃), yang boleh mengekalkan ketepatan kedudukan peralatan pengesan dengan lebih baik apabila suhu dalam bilik bersih berubah-ubah. Ciri redaman tinggi (nisbah redaman > 0.05) boleh melemahkan getaran peralatan dengan cepat dan menghalang probe pengesan daripada bergegar. Rintangan kakisan semulajadi membolehkannya kekal stabil walaupun terdedah kepada pelarut photoresist, gas etsa dan bahan kimia lain tanpa memerlukan perlindungan salutan tambahan.
Pada masa ini, platform granit digunakan secara meluas dalam kilang pembuatan wafer termaju. Data menunjukkan bahawa selepas menggunakan platform granit, kadar salah penilaian pengesanan zarah permukaan wafer telah menurun sebanyak 60%, kitaran penentukuran peralatan telah dilanjutkan sebanyak tiga kali, dan kos pengeluaran keseluruhan telah menurun sebanyak 25%. Apabila industri semikonduktor bergerak ke arah ketepatan yang lebih tinggi, platform granit, dengan kelebihan terasnya seperti pelepasan ion logam sifar dan pencemaran zarah yang rendah, akan terus memberikan sokongan yang stabil dan boleh dipercayai untuk pemeriksaan wafer, menjadi kuasa penting yang memacu kemajuan industri.
Masa siaran: Mei-20-2025